電池FPC曝光方式有哪幾種?
電池fpc曝光方式分類很多,簡單說它的曝光方式可粗分為,卷帶式連續(xù)曝光及單面式曝光兩種,這主要是依據(jù)制作材料型式與產(chǎn)品不同來分。如果是以曝光機操作型式分,則可分為接觸式、投射式、直接繪出式、多段式、平行與非平行光式等不同曝光分類。
fpc曝光要求的最大目標有兩部分,其一是達成曝光良好轉(zhuǎn)寫度,使影像真實呈現(xiàn),其二是降低需求影像以外缺點,尤其是曝光雜點。以轉(zhuǎn)寫度而言,希望達成的目標是以位置精確、尺寸穩(wěn)定為原則,因此所有能達成此目的的做法都值得關(guān)注。理論上使用高分辨率感光膜、高精度對位機構(gòu)、平行曝光結(jié)構(gòu)、良好曝光框機制、恰當排氣條操作,應(yīng)該就可以得到不錯的曝光成果。
某些曝光程序,希望能降低異物對曝光的影響,因此采用非平行曝光設(shè)備,這樣會減損一些分辨率。但因為可以降低異物造成的曝光困擾,因此也是一種不錯的選擇。至于投影式設(shè)備,因為影像是利用不接觸方式產(chǎn)生,因此作業(yè)面積小,但對于外來異物影響敏感度也較低,同時不會面對真空度、底片刮傷等問題,對小面積生產(chǎn)產(chǎn)品是不錯的選擇。
也有電池fpc廠大面積投射式曝光設(shè)備問世,利用平行式驅(qū)動的兩個坐標系統(tǒng),以折射鏡筒進行曝光。因為是非接觸式曝光系統(tǒng),可以微調(diào)焦距達成影像尺寸變化,因此號稱可以配合電路板尺寸變化作縮放。這個做法理論上可行,但實際應(yīng)用必須小心,因為會影響前后制程作業(yè)邏輯與操作成本。
最理想的曝光設(shè)備,理論上是直接輸出的繪制曝光設(shè)備,但這種設(shè)備的整體成本仍偏高。
綜合以上做法,不論軟、硬板制作都可以采用。但如果要作卷對卷連續(xù)生產(chǎn),曝光機構(gòu)與前后制程聯(lián)機方式要注意。某些用于TAB制作的曝光機,就直接使用非接觸投影設(shè)備曝光生產(chǎn)。它的做法就是使用卷式驅(qū)動器,將經(jīng)過涂布感光劑的軟板,進行收送連續(xù)曝光。曝光后再送進顯影蝕刻線,做后續(xù)的線路處理制作,是一種最典型卷式電池軟板曝光設(shè)備。
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型 號:RM02C00892A層 數(shù):2板 厚:0.12mm材 料:雙面無膠電解銅 厚:1/3 OZ表面處理:沉金2微英寸最小線寬/線距:0.07mm/0.05mm電磁膜:2面其 他:產(chǎn)品都經(jīng)過100%燒錄測試
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